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樱桃萝卜日光温室穴盘基质栽培技术探究

作者：胡红

来源：《南方农业·下旬》2017年第03期

摘 要 樱桃萝卜是一种半耐寒的四季萝卜，因其形状像樱桃而被称为樱桃萝卜，其具有美观的外形、鲜明的色泽、品质细嫩、生长迅速等特点，十分适合生吃，受到人们的广泛喜爱。研究表明，利用日光温室穴盘基质栽培技术，能够提高樱桃萝卜的产量。 关键词 樱桃萝卜；日光温室；穴盘基质；栽培技术

中图分类号：S631.1；S626 文献标志码：B DOI：10.19415/j.cnki.1673-890x.2017.09.002 樱桃萝卜具有健胃消食、解毒散瘀、除燥生津、通气宽胸、止咳化痰、利尿和止泄等功效，因此深受人们的欢迎。同时，樱桃萝卜是一种喜光作物，其叶片的生长及肉质根的生都需要充足阳光，光照不足将严重影响樱桃萝卜的品质。樱桃萝卜是半耐寒作物，不耐干旱，若土壤的含水量少于60%～80%，将导致肉质根出现溃烂、外皮粗糙、空心等问题。因此，种植樱桃萝卜需要一种新的栽培技术，即日光温室穴盘基质栽培技术，从而为其提供充足的阳光及土壤水分，提高樱桃萝卜的经济效益。 1 品种选择

樱桃萝卜日光温室穴盘基质栽培技术对品种的选择非常严格，具体要求有：株型较小、叶片数在5～6片以上、肉质根圆正、尾根较细、表皮富有光泽、颜色呈红色和适应力较强，如美樱桃、上海小红萝卜、荷兰红星樱桃萝卜、二十日大根等。其中，美樱桃是从日本引进的小型樱桃萝卜品种，其肉质根呈圆形，直径在2～3 cm，根皮呈红色，瓢为白色，美樱桃具有较强的适应性，其生长周期较短；上海小红萝卜是从国外引进，经我国上海郊区潜心栽培多年而培育出来的新品种，其肉质根呈扁圆球形，表皮为玫瑰紫红色，瓢和根尾呈白色，这种樱桃萝卜的肉质根脆嫩、味甜多汁，且品质优良，每株樱桃萝卜的肉质根重量在20 g左右，一般该樱桃萝卜的生长期在30～40 d；二十日大根是从日本引进的樱桃萝卜品种，其肉质白嫩，表皮鲜红，肉质根的直径为2～3 cm，单个肉质根重量为15～20 g，该种类的樱桃萝卜生长周期十分短，通常在20～30 d[1]。 2 栽培环境要求 2.1 土壤

由于樱桃萝卜喜疏松通气、排水良好、保湿的砂质土壤，因此其种植环境最好选择地势平坦、土层深厚、排水良好、土质疏松、保水保肥性能较好的砂质土壤，在涝能排、旱能浇、土壤pH值在7.5以下的日光温室种植，并保证土壤的含水量在20%左右；若土壤的含水量过

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低，将使樱桃萝卜的肉质根膨大，表皮粗糙，须根增多，味辣；若土壤的含水量过高，将使土壤出现通气不良的现象，从而导致肉质根的皮孔加大，表皮粗糙。 2.2 温度

樱桃萝卜生长最合适的温度在5～25 ℃，其中种子的出苗温度保持在20～25 ℃，生长盛期温度在6～25 ℃，并注意温度低于0 ℃时，将会使肉质根遭到破坏，植株的生长衰弱。 2.3 光照

樱桃萝卜对光照的要求十分严格，只有确保其日照在12 h以上，才能够保证樱桃萝卜的品质。 2.4 水分

樱桃萝卜的整个生长过程都必须保证充足的水分；若水分不足，将导致肉质根出现糠心现象，维生素C的含量降低；若长期干旱，将导致肉质根生长变得缓慢，须根增多，品质粗糙；若水分过多，将出现通气不良的现象，造成肉质根品质粗糙，进而在很大程度上降低樱桃萝卜的经济效益[2]。 3 穴盘基质的要求

樱桃萝卜日光温室穴盘基质栽培技术要求穴盘的大小规格为：下窄上宽，下面宽度为、形状为近似四方斗型，上面长为5 cm，下面长4 cm。高5 cm；由于樱桃萝卜的肉质根球茎直径在2～3 cm左右，只有确保穴盘的大小规格，才能满足樱桃萝卜肉质根的生长需要。 樱桃萝卜日光温室穴盘基质栽培技术中使用的基质需要特别配制，具体配制包括：首先，将珍珠岩、草炭、蛭石按照3∶6∶1的比例配制；其次，对混对配制后的基质进行比较试验，保证其具有较高的营养水平、较好的保水保肥透气性及适宜樱桃萝卜肉质根的出苗和生长；最后，在配制好的基质中放入生物制剂（20%的寡雄腐霉可湿性粉剂100 000倍液），再不断拌匀，直至手抓潮湿为止，然后将配制好的基质装盘；同时，装盘后，需用刮板将基质刮平，并在穴盘码到一定的高度时，在穴盘上边按压出0.5 cm深的穴，以便准确的播种。 4 播种要求

由于樱桃萝卜有较好的耐寒性，因此当气温基本稳定在8 ℃时即可播种。一般而言，播种最好在天气较晴暖的上午进行。樱桃萝卜播种通常采用装盘、播种、盖蛭石的自动精量播种，做到干籽直接播种，每个穴盘放入单粒种子；同时樱桃萝卜的种子必须保证粒粒饱满均匀，且纯净度、发芽率均大于98%，水分的含水量小于8%。在播种完成后，将所有穴盘一次摆放在栽培床上，再覆上配制好的基质，并使用刮板刮平基质，然后给穴盘浇水，直至浇透为止。最后在穴盘上方盖上透明塑料膜，进而起到保温保湿的作用[3]。

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5 生产管理 5.1 出苗期间的管理

在樱桃萝卜出苗期间，对没有盖塑料膜的穴盘要多补水，而盖有塑料膜的穴盘无需补水；同时，还应注意，这一阶段的温度应保持在23～25 ℃，若温室中的温度高于30 ℃必须立即开口通风。通常3 d后樱桃萝卜的种子就会出苗，这期间需及时将覆盖在穴盘的塑料膜去掉，从而避免烧苗现象的发生。 5.2 出苗后的管理

在樱桃萝卜的种子出苗以后，两片肥大的子叶将迅速展开，在真叶长出前，红色下胚轴将以很快的速度生长，极易出现徒长现象。在出苗以后应通过合理的降低温室温度来对下胚轴的生长进行控制，一般白天的温度在18～26 ℃，晚上的温度在10～13 ℃，基地湿度保持在60%左右，并时刻确保基地湿润。

当第一片真叶长出时，下胚轴逐渐膨起，作物开始进入幼苗阶段，这时就需要适当增温，白天的温度为

20～26 ℃，晚上的温度为12～15 ℃，进而促进幼苗的成长。

在冬季，需要做到早揭棚、晚盖棚，确保光照充足；同时，给幼苗适当的喷施营养液和浇水，通常清水与营养液需交替进行喷施。其中营养液需选用磷、氮、钾比例为10∶20∶20的育苗专用肥1 000倍的水溶液，每7 d定期喷施两三次，并每7 d喷施1次20%的生物农药（寡雄腐霉可湿性粉剂10 000倍液），从而避免真菌性病害的出现。此外，在叶丛的生长期，需要控制温室的温度，保持温度一直处于适宜的状态，白天的温度在

20～22 ℃，晚上在9～11 ℃，进而避免叶丛生长过快，造成采收上市期延迟。 5.3 肉质根生长期的管理

肉质根破肚以后，叶片数量将保持不变，植株的生长的中心将转向肉质根。从肉质根破肚到肉质根完全长成通常需要15 d左右。 在肉质根生长期，需要严格管理温室的温度，需适当降低温室温度，昼夜温差也需适当加大，从而进一步加快营养物质在肉质根的积累，提高樱桃萝卜的品质。白天的温度在18～20 ℃，晚上的温度在10～15 ℃，当白天温度在25 ℃以上时需立即通风降温，从而避免出现植株生长减弱、肉质根品质变差的现象。同时，在这一期间，应确保肥水供应充足，避免忽干忽湿。当基质含水量下降到40%，肉眼可以观察到基质表面出现轻微干裂时，需立即浇水。浇水同样需清水与营养液需交替进行。在肉质根定形后，需控制浇水量，避免浇水过多而导致基质发生裂口；同时。也要保证不能缺水，若出现缺水严重的现象，将会导致植株萎蔫、子叶于下部叶片发黄、肉质根康心、粗纤维增多等现象；进而降低樱桃萝卜的品质。