内容发布更新时间 : 2024/12/22 18:40:34星期一 下面是文章的全部内容请认真阅读。

估算镁生产过程六氟化硫排放量的计算公式见式（2.10），此方法是《2006年IPCC清单指南》推荐的方法，也是我国国家温室气体清单编制所采用的方法。

ESF?6ADi?i?162?EFi （2.10）

式中，ESF是镁生产过程SF6排放量，ADi分别是各市（县）境内采用六氟化硫作为保护剂的原镁产量和镁加工的产量，EFi分别是采用六氟化硫作为保护剂的原镁生产的SF6排放因子和镁加工的SF6排放因子。

2．活动水平数据及其来源

对于原镁生产环节，所需的活动水平数据为各市（县）境内采用六氟化硫作为保护剂的原镁产量。对于镁加工环节，所需的活动水平数据为各市（县）境内镁加工产量。浙江省没有原镁生产企业，存在50余家镁加工企业，可调研各市（县）相关行业管理部门（经信）获取镁加工企业名录和产量。在原始数据收集的基础上，可汇总出镁生产过程活动水平数据表，见表2.17。

表2.17 镁生产过程活动水平数据

类 别 采用六氟化硫作为保护剂的原镁产量 镁加工产量 单位 万吨 万吨 数值 3．排放因子数据

若无本地实测排放因子，建议采用表2.18推荐的排放因子

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估算镁生产过程排放量。

表2.18 推荐的镁生产过程排放因子

类 别 原镁生产 镁加工 单 位 千克SF6/吨镁 千克SF6/吨镁 推荐数值 0.490 0.114 （三）电力设备生产过程 1．清单编制方法

六氟化硫具有优异的绝缘性能和良好的灭弧性能，在高压开关断路器及封闭式气体绝缘组合电器设备（GIS）得到广泛使用。市（县）清单只报告电力设备生产环节和安装环节的六氟化硫排放，暂不报告电力设备使用环节和报废环节的六氟化硫排放。

估算电力设备生产过程六氟化硫排放量的计算公式见式（2.11），此方法是《IPCC优良作法指南》推荐的方法，也是我国国家温室气体清单编制所采用的方法。

ESF6?AD?EF

6 （2.11）

式中，ESF是电力设备生产过程的SF6排放量；AD是各市（县）境内电力设备生产过程SF6的使用量；EF是电力设备生产过程SF6的平均排放因子。

2．活动水平数据及其来源

所需的活动水平数据为各市（县）境内电力设备生产过程六氟化硫使用量，可调研当地电气行业协会或相关行业管理部门

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（经信）获取当地电气企业名录，进行实地调研。在原始数据收集的基础上，可以汇总出电力设备生产过程活动水平数据表见表2.19。可采用计算公式：电力设备生产过程六氟化硫年使用量=年中采购量+年初存量-年底余量。

表2.19 电力设备生产过程活动水平数据

类 别 电力设备生产过程六氟化硫使用量 单位 吨 数值 3．排放因子数据

若无本地实测排放因子，建议采用表2.20的排放因子估算电力设备生产过程排放量。

表2.20 推荐的电力设备生产过程排放因子

类 别 电力设备生产过程六氟化硫排放因子 单位 % 推荐数值 8.6 （四）半导体生产过程 1．清单编制方法

半导体生产过程采用多种含氟气体。含氟气体主要用于半导体制造业的晶圆制作过程中，具体用在等离子刻蚀和化学蒸汽沉积（CVD）反应腔体的电浆清洁和电浆蚀刻。半导体制造的温室气体清单排放报告蚀刻与清洗环节的四氟化碳（CF4）、三氟甲烷（CHF3或HFC-23）、六氟乙烷（C2F6）和六氟化硫（SF6）的排放量。

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估算半导体生产过程排放量的方法的计算公式见式（2.12），式（2.13），式（2.14）和式（2.15），此方法是《IPCC优良作法指南》推荐的方法，也是我国国家温室气体清单编制所采用的方法。

ECF4?ADCF4?EFCF4

4

4（2.12）

ECFADCF式中，是半导体生产过程的CF4排放量；是各市（县）

境内半导体生产过程CF4的使用量；EFCF是半导体生产过程CF4

4的平均排放因子。

ECHF?ADCHF?EFCHF

3333 （2.13）

3式中，ECHF是半导体生产过程的CHF3排放量；ADCHF是各市（县）境内半导体生产过程CHF3的使用量；EFCHF是半导体生产

3过程CHF3的平均排放因子。

EC2F6?ADC2F6?EFC2F6

26 （2.14）

26式中，ECF是半导体生产过程的C2F6排放量；ADCF是各市（县）境内半导体生产过程C2F6的使用量；EFCF是半导体生产

26过程C2F6的平均排放因子。

ESF6?ADSF6?EFSF6

6 （2.15）

6ESFADSF式中，是半导体生产过程的SF6排放量；是各市（县）

境内半导体生产过程SF6的使用量；EFSF是半导体生产过程SF6

6的平均排放因子。

2．活动水平数据及其来源

所需的活动水平数据为各市（县）境内的含氟气体的使用量，

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调研浙江省半导体行业协会或相关行业管理部门（经信）获取各市（县）半导体制造企业名录，进行企业实地调研。在原始数据收集的基础上，可以汇总得到半导体生产过程活动水平数据表见表2.21。可采用计算公式：半导体生产过程六氟化硫年使用量=年中采购量+年初存量-年底余量。

表2.21 半导体生产过程活动水平数据

CF4用量（千克） CHF3用量（千克） C2F6用量（千克） SF6用量（千克） 3．排放因子数据

若无本地实测排放因子，建议采用表2.22推荐的系数估算半导体生产过程排放量。

表2.22 推荐的半导体生产过程排放因子

CF4排放因子 43.56% CHF3排放因子 20.95% C2F6排放因子 3.76% SF6排放因子 19.51% （五）氢氟烃生产过程 1．清单编制方法

《蒙特利尔议定书》及其修正案使工业界开发并生产了多种臭氧消耗物质（ODS）替代品。一些臭氧消耗物质替代品在生产和使用中会有部分气体排放到大气中，造成温室效应，成为温室气体。氢氟烃是其中排放量比较大的一类。与省级清单一致，市（县）级清单报告氢氟烃生产过程的排放，暂不报告氢氟烃使用过程的排放。

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