用VASP4.6计算晶体硅能带实例 下载本文

内容发布更新时间 : 2024/6/2 1:13:25星期一 下面是文章的全部内容请认真阅读。

VASP Version : 4.6

在此文中,我将用硅晶体作为实例,来说明如何用VASP4.6来计算固体的能带结构。首先我们要了解晶体硅的结构,它是两个嵌套在一起的FCC布拉菲晶格,相对的位置为 (a/4,a/4,a/4), 其中a=5.4A是大的正方晶格的晶格常数。在计算中,我们采用FCC的原胞,每个原胞里有两个硅原子。

VASP计算需要以下的四个文件:INCAR(控制参数), KPOINTS(倒空间撒点), POSCAR(原子坐标), POTCAR(赝势文件)

为了计算能带结构,我们首先要进行一次自洽计算,得到体系正确的基态电子密度。然后固定此电荷分布,对于选定的特殊的K点进一步进行非自洽的能带计算。 有了需要的K点的能量本征值,也就得到了我们所需要的能带。 步骤一.—自洽计算产生正确的基态电子密度: 以下是用到的各个文件样本: INCAR 文件: SYSTEM = Si

Startparameter for this run:

NWRITE = 2; LPETIM=F write-flag & timer PREC = medium medium, high low

ISTART = 0 job : 0-new 1-cont 2-samecut ICHARG = 2 charge: 1-file 2-atom 10-const ISPIN = 1 spin polarized calculation?

Electronic Relaxation 1

NELM = 90; NELMIN= 8; NELMDL= 10 # of ELM steps EDIFF = 0.1E-03 stopping-criterion for ELM LREAL = .FALSE. real-space projection

Ionic relaxation

EDIFFG = 0.1E-02 stopping-criterion for IOM NSW = 0 number of steps for IOM

IBRION = 2 ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG ISIF = 2 stress and relaxation

POTIM = 0.10 time-step for ionic-motion TEIN = 0.0 initial temperature

TEBEG = 0.0; TEEND = 0.0 temperature during run

DOS related values:

ISMEAR = 0 ; SIGMA = 0.10 broadening in eV -4-tet -1-fermi 0-gaus

Electronic relaxation 2 (details)

Write flags

LWAVE = T write WAVECAR LCHARG = T write CHGCAR

VASP给INCAR文件中的很多参数都设置了默认值,所以如果你对参数不熟悉,可以直接用默认的参数值。比如在这个例子中,下面的比较简单的INCAR 文件也可以完成任务: SYSTEM = Si

Startparameter for this run:

PREC = medium medium, high low

ISTART = 0 job : 0-new 1-cont 2-samecut ICHARG = 2 charge: 1-file 2-atom 10-const EDIFF = 0.1E-03 stopping-criterion for ELM NSW = 0 number of steps for IOM

IBRION = 2 ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG ISIF = 2 stress and relaxation

KPOINT文件:

我们采用自动的Monkhorst-Pack K点撒取方式。对于类似于硅晶体的半导体材料,通常 4x4x4 的K点网格就够了。 Monkhorst Pack 0

Monkhorst Pack 4 4 4 0 0 0

POSCAR文件:

我们采用FCC原胞,所以每个原胞包含两个硅原子 Si

5.38936 0.5 0.5 0.0 0.0 0.5 0.5 0.5 0.0 0.5 2

Cartesian

0.0000000000000 0.00000000000 0.0000000000000 0.2500000000000 0.25000000000 0.2500000000000

POTCAR文件

不需要进行任何改动,只需将POTCAR文件从正确的赝势库里拷贝过来就行了。 运行VASP进行完这一步的计算后,我们应该得到了自洽的电荷分布-CHGCAR文件。为了得到能带结构,我们需要对指定的K点进行非自洽的计算,然后将信息汇总,得到E-K的能带关系。

步骤二.—在固定电子密度的情况下,得到选取K点的能量本征值。 我们需要修改一下INCAR文件中的部分参数

ICHARG = 11 charge: 1-file 2-atom 10-const

ICHARG=11 表示从CHGCAR中读入电荷分布,并且在计算中保持不变。 我们还需要更改KPOINT文件,来指定我们感兴趣的某些高对称性的K点。在VASP4.6中,这个可以通过Line mode来轻易实现. k-points along high symmetry lines 10 ! 10 intersections Line-mode rec

0 0 0 ! gamma 0.5 0.5 0 ! X

0.0 0.0 0 ! gamma 0.5 0.5 0.5 ! L

通过指定Line-mode, VASP会自动在起点和终点之间插入指定的K点数,比如上面的文件就是指定VASP计算沿着Gamma点到X点,以及Gamma点到L点的K点,每个方向上各取10个K点。下图是硅晶体的第一布里渊区,标出了一些高对称性点。

作如上修改后,我们再次运行VASP,然后我们就可以从OUTCAR文件或者EIGENVAL文件里得到需要的每个K点的能级信息。

比如说EIGENVAL文件会有类似以下的输出

0.5555556E-01 0.5555556E-01 0.0000000E+00 0.5000000E-01 1 -6.8356 2 4.8911 3 5.0077 4 5.0079 5 7.6438