内容发布更新时间 : 2024/5/19 3:37:59星期一 下面是文章的全部内容请认真阅读。

光伏pecvd员工工作总结怎么写

篇一：工作总结()-PECVD 生产部工作总结——第一周（）

作为设备部技术员来河生产部，我的任务主要是熟悉整个薄膜电池的实际生产工艺流程，学习PECVD和CVD设备的相关技术知识，与此同时也是对个人在一线的磨练。目前，我担任PECVD工序上料部分的工作。以下是本周的工作总结： 一． 对制造业生产一线的基本工作环境有了一定的认识。车间干净

整洁，有秩序；工作人员各司其职，工作认真；工作强度较大；5S工作频繁，对车间的卫生工作要求较高。 二． 对TCO玻璃的了解。河源汉能的TCO玻璃从日本进口，尺寸为

1245*635，每片大约100元是普通玻璃的4-5倍。具有高透光率、低电阻率和绒面结构，通过对光折射和反射具有较大的吸光率。生产过程需要保持膜面的洁净。

三． TCO玻璃的上料很需要技巧，未经过训练的人员很容易弄碎玻

璃或者刮伤膜面、污染膜面。

四． 5S需要经常搞。洁净要遍布每一个角落,而且要保持。

五． 设备有一定的缺陷。TCO在经过二次激光刻线流程

时经常会被

刮伤，有时会刻线会出现错误。个人觉得生产线运行有点慢，效率有待提高。 王陈

篇二：PECVD的工作原理 PECVD的工作原理 XX-03-13 21:11 PECVD

PECVD--等离子体化学气相沉积法

是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD). 实验机理：

辉光放电等离子体中： 电子密度高 (109~1012/cm3) 电子气温度比普通气体分子温度高出10-100倍 虽环境温度(100-300℃)，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大 提高了参与反应物的活性。

因此，这些具有高反应活性的中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

优点：基本温度低；沉积速率快； 成膜质量好，针孔少，不易龟裂。

缺点：1.设备投资大、成本高，对气体的纯度要求高； 2.涂层过程中产生的剧烈噪音、强光辐射、有害气体、金属蒸汽粉尘等对人体有害；

3.对小孔孔径内表面难以涂层等。

例子：在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应。衬底温度通常保持在350℃左右就可以得到良好的SiOx或SiNx薄膜，可以作为集成电路最后的钝化保护层，提高集成电路的可靠性。 几

图（a）是一种最简单的电感耦合产生等离子体的PECVD装置，可

图b）它是一种平行板结构装置。衬底放在具有温控装置的下面平板上，压强通常保持在133Pa左右，射频电压加在上下平行板之间，以在实验室中使用。 种PECVD装置 于是在上下平板间就会出现电容耦合式的气体放电，并产生等离子体。

图（c）是一种扩散炉内放置若干平行板、由电容式放电产生等离子体的PECVD装置。它的设计主要为了配合工厂生产的需要，增加炉产量