内容发布更新时间 : 2024/5/13 4:31:32星期一 下面是文章的全部内容请认真阅读。
??2nh??2?m???2nh??2?(m?
1)?2（图二）不同类型的精磨金刚石丸片磨具
抛光的工艺中，所用的抛光液为二氧化锶（CeO2），夹具为比较柔软的纤维布料，其具体操作步骤为：
将休整好的抛光模上紧在机床的光轴上，把待加工的零件放置在相应的夹具内，与机床上的抛光模相贴，调整机床的摆幅，启动机床对零件的第一面进行抛光，抛光完工后重复上述步骤，对零件进行第二面抛光，在抛光过程中，操作者必须对每件零件进行相应的自检，如零件的中心厚度、表面光洁度、光圈及光圈不规则度等。
图三、精磨抛光机
（四）：镀膜工艺
薄膜的作用在于改进基底的性能或功能。实现特定的光学特性 优化表面性能，改善表面特性，进行微细加工，实现微制造； 产生新功能特性。
光学薄膜器件主要采用真空环境下的热蒸发方法制造。常用的薄膜制备方法有热蒸发、溅射、离子束辅助蒸发、电镀。
各种光学玻璃因为其使用目的和环境的不同，对工艺的要求和光线的通透等也就不相同，镀膜这道工序就是为了满足这些要求而对光线光路等做出相应的调整。
镀膜要求较高，学校所采用的是箱式电子真空镀膜机，在指导老师的介绍下，其基本原理是通过电子枪发射出来的电子在磁场的作用下受洛仑兹力作用而打在膜料上使膜料蒸发较均匀的粘附在玻璃镜片上，然后烘烤镜片使膜料粘固。
镀膜后的镜片通过封光光光度计来检查其光谱曲线来计算其反射率、透射率等是否达到技术要求。
在这种镀膜方式下，由于边缘线速度与中心线速度是不相同的，温度也并非出处相同，所以不能保证光学表面镀膜的均匀，边缘和中心必然存在一定的偏差。
镀膜机工作时要求真空环境，真空等级分为初真空，低真空，高真空，极高真空，超高真空，一般要求工作环境为高真空,所处气压为10－3～10－5Pa。
镀膜后的检验方法主要有判别颜色，观察器件的表面光洁度，测试所镀膜层的牢固度（使用擦拭法）。
镀膜的具体工序如下所示：
1． 操作人员，必须取得岗位资格证书 2． 膜料的选择 膜料MgF2 纯度≥99.99％
3． 工房的要求 温度控制在22°C±4°C，湿度≤80％，工房内一切设施摆放整洁。
4． 清洁基片用脱脂布蘸醇醚混合液擦拭零件表面，若表面印记不能用混合液擦去，可用细抛光粉擦，然后用醇醚混合液擦干，以哈气检查表面清洁程度。
5． 装料装件将擦拭干净的基片放置在镀膜用夹具上，并调整好夹具及基片的位置，以便蒸发时目测干涉色的变化，同时将蒸发源及膜料装好。 6． 开冷却水和扩散泵
7． 抽低真空打开机械泵低阀，抽低真空，打开低真空测量表头（热电偶真空计），测低真空度。
8． 离子轰击当真空抽至10～20Pa时开始轰击，轰击电流50～150uA，启动工转旋转工作，将低阀关闭，抽预阀（管道），当真空度降至20Pa时，关闭预阀，重新抽低阀，重复动作维持真空度在10～0.1Pa之间，时间10～20分钟。
9． 开高阀 离子轰击10～20分钟，低真空在1～10Pa时，打开高真空阀门，待离子轰击辉光消失后，切断轰击电源。 10．烘烧 250°C～300°C
11． 测高真空当真空度到0.001Pa时，用电离真空计测量
12． 预熔除气 当真空度至0.008Pa时开始预熔除气，预熔缓慢，至膜料彻底变为流动的液体。
13． 蒸镀 当温度达到250°C～300°C时，真空度达到0.005～0.007Pa，即可蒸发，蒸发电流应比预熔时的电流略低，避免出现“打点子”，用目测观测反射色控制膜厚，到达指定颜色时停止蒸镀。
14． 冷却，充气 当真空室温度降至200°C时，充气 15． 送检
七、总结：
经过为期七天的专业实习，让我对于所学专业在成果转化方面有了新的认识。体验了一下作为我们对口专业工人师傅的工作的过程，在这七天中我在磨镜片的过程中体验了失败与成功，但是我觉得我在
失败中收获的东西远比成功的多。因为当我在失败的过程中认真的总结经验与教训，发现出现问题的原因，从而避免问题的再次发生。另外，在磨边工艺中，由于这个操作时带油操作，而且在磨边过程中稍有不慎镜片就会废掉，使我们前一天的粗磨过的产品废掉，因此大家在操作这个的时候都会有顾虑，我第一个上机器去操作，因为操作不慎将自己的两个镜片全部损坏，虽然自己的镜片损坏了，但是为我们组后边的同学积累了经验。经过大家的研究，保证了后续的产品的成功率。因此，这次实习让我最大的收获就是，在实习过程中只有自己真正动手操作，才能发现问题；对于出现的问题，大家一起讨论，就能更快的解决问题，这体现了团队协作的力量。这对于今后的学习、工作和生活都有积极的意义。
八、参考文献：
《光学冷加工工艺手册》 吕茂钰主编 机械工业出版社 1991年 《现代光学制造技术》 舒朝濂主编 国防工业出版社 2008年